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产品简介
VIL1000激光干涉光刻机
VIL系列纳米图形系统(激光干涉光刻机)具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光,在8英寸大面积上产生各种纳米结构,例如1D光栅线和2D柱/孔图案,周期从240 nm到1500 nm。
| 品牌 | 其他品牌 |
|---|
VIL1000激光干涉光刻机
VIL1000激光干涉光刻机


1、 可实现同一晶圆上不同纳米结构的分区光刻;
2、 制作各种一维、二维纳米图案;
3、 最小线宽低于50nm;
4、 与其他同类设备的功能对比图如下:
电子束直写 |
激光直写 |
紫外光刻机 |
激光干涉光刻机 |
|
设备示例 |
![]() |
|
![]() |
![]() |
代表厂商 |
德国的Raith和Vistec,日本的JEOL和Elionix |
海德堡和Raith |
Eulitha |
InterLitho |
代表性产品型号 |
Raith EBPG Plus |
海德堡 DWL 66+ |
Eulitha PhableR 100 |
VIL1000 |
主要用途 |
高分辨率掩模版制造和纳米结构的制备 |
对分辨率要求不高的掩模版制造和纳米结构制备 |
分辨率适中的纳米结构制备 |
大面积、低成本、高通量制备高分辨率周期性纳米结构,用于微纳光学、生物芯片等新兴应用 |
刻写的最小物理线宽 |
<10nm |
~300nm |
60nm |
40nm |
价格和维护成本 |
高 |
中 |
中 |
较低 |
自动化程度 |
全自动 |
全自动 |
部分手动 |
全自动 |
设备效率 |
低 |
低 |
高 |
高 |
需要掩模 |
否 |
否 |
是 |
否 |
特征尺寸调制难度 |
难,样品需要重新刻写 |
难,样品需要重新刻写 |
难,需要重新刻写模板 |
容易,几分钟可实现 |